食器洗い乾燥機 TKR/RKWシリーズ

浮遊カビ菌^※1やニオイを抑える

イオンの力で浮遊カビ菌^※1や付着したニオイを分解・抑制する注目の技術「プラズマクラスター」を食器洗い乾燥機に搭載しました。

洗浄直後のクリーンな状態をキープ

食器の乾燥時に外気から取り込まれる空気をプラズマクラスターイオンが浄化。高濃度なプラズマクラスターイオンにより、浮遊カビ菌^※1の抑制に加え、付着しているカビ菌の増殖も抑制^※2するので、庫内では洗浄終了後の清潔な状態が続きます。また手洗いした食器も「クリーンキープコース」で保管すれば清潔さを保ちます。

❶イオンを放出

自然界にあるのと同じプラス(H+)とマイナス(O2-)のイオンを、プラズマ放電により作り出し空気中に放出。

❷カビ菌に作用

浮遊カビ菌の表面に付着し、非常に酸化力の強いOHラジカルに変化。表面のタンパク質から瞬時に水素(H)を抜き取り、タンパク質を分解。

❸水になって空気中に戻る

抜き取った水素(H)とOHラジカルが結合し、水(H2O)になって空気中に戻る。

• ※1
  ＜浮遊カビ菌＞●試験機関:(一財)石川県予防医学協会●試験方法:約31m3(約8畳相当)の試験空間にプラズマクラスターイオンを放出し、浮遊カビ菌をエアーサンプラーにて測定。(プラズマクラスターイオン濃度:25,000個/cm3)■試験結果:約83分で除去率99％。
• ※2
  ＜付着カビ菌の増殖抑制＞●試験依頼先:(一財)日本食品分析センター●試験成績書:第12076306004-01号(平成24年9月6日発行)●試験方法:シャープ(株)にて約20m3(約5畳相当)の試験空間にカビ菌を付着させた塩ビ板を置き、プラズマクラスターイオンを放出し、カビ菌を3日間増殖させたものを試験依頼。JISZ2911を参考にしてカビ発育面積を比較。(プラズマクラスターイオン濃度:25,000個/cm3)■試験結果:3日後に付着カビ菌の増殖を抑制。カビ菌を3日間増殖させたものを試験依頼。JISZ2911を参考にしてカビ発育面積を比較。(プラズマクラスターイオン濃度:25,000個/cm3)■試験結果:3日後に付着カビ菌の増殖を抑制。
• ※
  プラズマクラスター、Plasmaclusterは、シャープ株式会社の登録商標です。

噴射方向・角度が変化し、スミズミまで洗浄

• 水圧で伸びる2段式ノズルを採用。下部ノズルからのシャワーに加え、上部からシャワーを拡散することで、庫内のスミズミまで水流が届きます。上カゴや大皿の上部の汚れもムラなく洗い流します。

  

洗浄性を高める

• 上カゴを円狐状にし、回転ノズルの動きに合わせることで洗いにくい両端のコップもキレイに洗浄します。

  

食器が入れやすいポジションサインとピン

• 食器をセットする位置がひと目でわかるようポジションサインをカゴに印字。大皿用のセットピンが折りたためるので、大きめの食器や鍋もラクにセットが可能。

  

立ったままラクラク操作

• 操作ボタンを上部に集約。かがまず楽な姿勢で操作できるため、高齢者の方も安心してお使いいただけます。